光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photoli... 详情>>概要 - 主要厂商 - 品牌 - 分类 - 全部baike.so.com

19小时前光刻机核心零部件供应商华卓精科重启上市辅导东方财富网

2026年1月29日 - EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备,目前由ASML独家进行研发、制造,ASML公司掌握80%的国际市场份额,市面上无法寻找到其他替代品 + 关注 全部内...

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