2025年11月24日 - 技术替代方案涌现:日本佳能纳米压印(NIL)实现5nm制程,俄罗斯11.2nm氙基光源提升分辨率20%,美国Substrate公司X光刻技术宣称可支持2nm芯片;.固...news.sina.cn

2021年8月20日 - 数字信息化时代的到来加速了硅基芯片更新换代的速率,为了满足设备对大数据运算的需求,芯片厂商采用传统的“增加硅晶体管数量”的方式来提高芯...junshi.xilu.com

2025年11月24日 - 技术替代方案涌现:日本佳能纳米压印(NIL)实现5nm制程,俄罗斯11.2nm氙基光源提升分辨率20%,美国Substrate公司X光刻技术宣称可支持2nm芯片;.固体激光路...

2025年11月24日 - 技术替代方案涌现:日本佳能纳米压印(NIL)实现5nm制程,俄罗斯11.2nm氙基光源提升分辨率20%,美国Substrate公司X光刻技术宣称可支持2nm芯片;.固体激光路...

2025年11月24日 - 技术替代方案涌现:日本佳能纳米压印(NIL)实现5nm制程,俄罗斯11.2nm氙基光源提升分辨率20%,美国Substrate公司X光刻技术宣称可支持2nm芯片;.固体激光路...