华为为EUV光刻系统中的一个组件申请了专利,该组件是在制造低于10nm制程高端处理器所需的.它解决了由紫外光产生的干涉图案的问题,否则会使晶圆不均匀,这增加了华为未来自己...

中科院传来重磅消息,5nm光刻机迅速腾飞,华为芯片迎来转机! 无限奥特团在竹林里遇见 霍元甲 ,赛罗:江湖难测,谁是强者? 遮天:赤龙道...v.qq.com

2025年12月7日 - 要理解华为的技术,首先要明白光刻机的物理限制.华为路径(DUV): 华为手中的DUV光刻机,波长较长,相当于一支较粗的 记号笔 ,理论上无法直接画出2纳米所需...