2025年11月29日 - 目前全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV极紫外光刻机,其核心特点包括:采用13.5纳米波长光源,可支持两纳米以下先进制程,并且正在向high NA(高数值孔径)...

2025年10月20日 - 最近荷兰光刻机圈子彻底打破了平静,ASML这位全球光刻机龙头,再加上给它配套的一众荷兰供应商,明里暗里都在往中国市场靠。.华为联合中科院搞的EUV原型...

2026年2月2日 - 中科院光电技术研究所紫外双面光刻机URE-2000S/B 型.URE-2000/ZX20曲面激光直写光刻机多轴联动 精简步骤 自动化...

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2025年10月15日 - 如今,上海微电子的90nm光刻机已稳定服务产线,28nm浸没式机型进入内部测试,覆盖传感器、功率器件等刚需场景;高端EUV光刻机仍处研发阶段,但中科院联合长...

2025年12月19日 - 这一突破打破了此前全球仅荷兰阿斯麦(ASML)能制造EUV光刻机的垄断局面,标志着中国在半导体核心设备领域实现重大技术跨越。.中国原型机采用中科院长春...