2025年8月12日 - 全球非线性光学晶体龙头(LBO/BBO市占率超60%),产品用于ASML及国产光刻机激光光源,EUV晶体进入中科院验证阶段.通过子公司持有(SMEE)10.78%股权,后者是...

2025年10月20日 - 黑龙江德国桌面无掩模光刻机无掩模激光直写技术:无需物理掩膜,软件直接输入任意图案,降低成本与时间。.例如,中科院理化所利用类似技术制备跨...www.sd56.net.cn

国产突破提速:上海微电子28nm DUV光刻机进入客户验证阶段;中科院、哈工大....光刻机,作为半导体制造的 皇冠明珠 ,正站在历史性**的前夜!政策加码、国产替代加速、下游需求井喷——三重红利共振,...news.tianyancha.com