2026年2月5日 - 目前,中国研发的光刻机已经突破性地达到了7纳米的线宽精度,这标志着在分辨率和可制造性方面取得了显著提升,对中国半导体产业的竞争力产生了积极影响,...

中国自主研发高端光刻机,让世界看到中国芯力量!,简介:中国自主研发高端光刻机,让世界看到中国芯力量! 2017年1月6日发布 首页 VIP会员 电视剧 电影 综艺 动漫 少儿 短剧 纪录片 全部 影视推荐:...v.qq.com