中科院研究员辟谣:5nm光刻技术存在误读,国产水平在180nm-贤集网电子专题 2026年2月2日 - 因此,中科院所攻克的这项新技术,虽然没有部分媒体表述的那样夸张,但对我国高端光掩膜市场的突破,依然具有重要意义.今年 7月份,中科院发表的一则《超分...
光刻机国产化进程中的关键进展与企业贡献 - 天眼查 2025年9月12日 - 随后,中科院半导体所于1978年开始研制JK-1型半自动接近式光刻机,并于1980年取得成功.01光刻机发展历史 我国光刻机产业在二十世纪六十年代起步,通过多...
中国光刻机突破背后,藏着哪些不为人知的技术密码? - 天眼查 路透社的一则独家报道在全球半导体行业投下震撼弹:中国在深圳某高度保密实验室完成EUV光刻机原型机测试.中科院研发的固态DUV激光器能发射193纳米相干光,与ASML主流设备波长完全一....打开百度AP...news.tianyancha.comTIME.rfTime = +new Date;
光刻机设备行业市场发展分析及技术壁垒与国产化进程研究报告 - 豆丁网 2026年1月3日 - 此外,中科院西安光学精密机械研究所也在EUV光刻机的关键技术研究方面取得了一定进展.一、光刻机设备行业市场发展分析 4...