国产突破提速:上海微电子28nm DUV光刻机进入客户验证阶段;中科院、哈工大....光刻机,作为半导体制造的 皇冠明珠 ,正站在历史性**的前夜!政策加码、国产替代加速、下游需求井喷——三重红利共振,...news.tianyancha.com

苏州亿拓光电科技公司主要产品为无掩膜光刻机,激光直写式光刻机以及相关精密检测设备,其应用涵盖微纳制造、平板显示、激光全息和防伪印刷等领域。地址:苏州工业园区东富路5...

2026年2月2日 - 究其原因,还是因为我国缺乏芯片制造的一些必要的设备,因此在制造芯片时精度无法达到要求,我国中科院已经成功研发出2纳米的芯片,万事俱备,可是缺了2nm...

2026年1月27日 - 第235章 光刻机生产线落地,震撼中科院长一百年!(旧版) 一夜听雨都市 |都市设置瀑布瀑布 从本章开始听 您还没有登录 请登录后在继续阅读本部小说! 立即...

2026年2月2日 - 因此,中科院所攻克的这项新技术,虽然没有部分媒体表述的那样夸张,但对我国高端光掩膜市场的突破,依然具有重要意义.今年 7月份,中科院发表的一则《超分...

2025年9月12日 - 随后,中科院半导体所于1978年开始研制JK-1型半自动接近式光刻机,并于1980年取得成功.01光刻机发展历史 我国光刻机产业在二十世纪六十年代起步,通过多...